首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

MOCVD法生长ZnO薄膜的结构及光学特性
引用本文:马艳,杜国同,杨天鹏,李万程,张源涛,刘大力,姜秀英.MOCVD法生长ZnO薄膜的结构及光学特性[J].发光学报,2004,25(3):305-308.
作者姓名:马艳  杜国同  杨天鹏  李万程  张源涛  刘大力  姜秀英
作者单位:吉林大学,电子科学与工程学院;集成光电子国家重点实验室,吉林,长春,130023
基金项目:国家自然科学基金 ( 5 9910 161983,60 1770 0 7,60 1760 2 6),国家“863”计划 ( 2 0 0 2AA3 1113 0 )资助项目
摘    要:采用MOCVD方法在c Al2 O3衬底上生长出了具有单一c轴取向的ZnO薄膜 ,采用X射线衍射 (XRD)、Raman散射、X射线光电子能谱 (XPS)及光致发光 (PL)谱等方法对ZnO薄膜的结构及光学特性进行分析测试。XRD分析只观察到ZnO薄膜 (0 0 0 2 )衍射峰 ,其FWHM数值为 0 1 84°。Raman散射谱中 ,4 35 32cm- 1 处喇曼峰为ZnO的E2 (high)振动模 ,A1 (LO)振动模位于 5 75 32cm- 1 处。XPS分析表明 :ZnO薄膜表面易吸附游离态氧 ,刻蚀后ZnO薄膜O1s光电子能谱峰位于 5 30 2eV ,更接近Zn—O键中O1s电子结合能 (5 30 4eV)。PL谱中 ,在3 2 8eV处观察到了自由激子发射峰 ,而深能级跃迁峰位于 2 5 5eV ,二者峰强比值为 4 0∶1 ,表明生长的ZnO薄膜具有较高的光学质量

关 键 词:ZnO薄膜  金属有机化学气相沉积  结构  光致发光光谱
文章编号:1000-7032(2004)03-0305-04
修稿时间:2003年3月17日

Structure and Optical Property of ZnO Thin Films Grown by MOCVD
MA Yan,DU Guo tong,YANG Tian peng,LI Wan cheng,ZHANG Yuan tao,LIU Da li,JIANG Xiu ying.Structure and Optical Property of ZnO Thin Films Grown by MOCVD[J].Chinese Journal of Luminescence,2004,25(3):305-308.
Authors:MA Yan  DU Guo tong  YANG Tian peng  LI Wan cheng  ZHANG Yuan tao  LIU Da li  JIANG Xiu ying
Abstract:
Keywords:ZnO thin film  MOCVD  PL  structure
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号