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宽带Ⅱ-Ⅵ族半导体及其低维结构的生长和光学性质研究进展
引用本文:范希武.宽带Ⅱ-Ⅵ族半导体及其低维结构的生长和光学性质研究进展[J].发光学报,2002,23(4):317-329.
作者姓名:范希武
作者单位:中国科学院激发态物理重点实验室中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,长春吉林,130022
基金项目:国家攀登计划项目,国家自然科学重大基金项目(69896260),国家自然科基金,国家863高技术计划,中国科学院重大项目,中国科学院重点项目,中国科学院百人计划,中国科学院知识创新工程,吉林省科委基金,中国科学院激发态物理重点实验室的资助项目
摘    要:本文系自1979年以来,宽带Ⅱ-Ⅵ族半导体研究组取得的主要研究成果的简要介绍。取得的主要研究成果可分为如下六个方面:第一,系统地研究了宽带Ⅱ-Ⅵ族半导体在电场激发下的自由激子发射;第二,创造性地提出并实 利用宽带Ⅱ-Ⅵ族超晶格的室温激子效应来实现在蓝绿区快响应的光学双稳的物理思想;第三,深入研究了宽带Ⅱ-Ⅵ族超晶格中的激子行为以及激子与元激发态的相互作用,为利用激子获得有效蓝色自发和受激发射提供物理基础和实验途径;第四,研究了ZnSe基非对称双量子阱和组合超晶格中激子的隧穿以及激子的自发和受激发射;第五,CdSe和ZnSeS自组装量子点的生长及其形成机理;第六,ZnO薄膜的生长及其紫外发射特性。

关 键 词:Ⅱ-Ⅵ族半导体  低维结构  光学性质  自由激子发射  激子  薄膜生长
文章编号:1000-7032(2002)04-0317-13
修稿时间:2002年4月20日

Research Progress on Growth and Optical Properties of Wide Band Gap Ⅱ-Ⅵ Compound Semiconductors and Its Low Dimensional Structure
FAN X W.Research Progress on Growth and Optical Properties of Wide Band Gap Ⅱ-Ⅵ Compound Semiconductors and Its Low Dimensional Structure[J].Chinese Journal of Luminescence,2002,23(4):317-329.
Authors:FAN X W
Abstract:
Keywords:
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