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GaAs衬底上分子束外延α-Sn薄膜及其量子阱结构考虑
引用本文:易新建,郝建华,张新宇.GaAs衬底上分子束外延α-Sn薄膜及其量子阱结构考虑[J].中国科学A辑,1998,41(2):166-170.
作者姓名:易新建  郝建华  张新宇
作者单位:华中理工大学光电子工程系 武汉430074
摘    要:利用分子束外延 (MBE)在GaAs( 001)单晶衬底上进行了α Sn薄膜的生长 ,利用反射高能电子显微镜 (RHEED) ,原位监控α Sn的生长过程和利用透射电子显微镜 (TEM )分析了界面结构 .测试结果表明 ,与以往报道相比亚稳态的α Sn膜具有高得多的温度稳定性 (由 70℃提高到100℃ )和厚度稳定性 (由 500nm提高到 700nm) ,并观察到在其他电性能方面的改进.此外 ,还提出了一种新型量子阱结构.

关 键 词:量子阱  量子尺寸效应  分子束外延  &alpha  -Sn薄膜  异质结外延
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