|
|||||
|
|
| 外延生长YBa2Cu3O7-x超导薄膜的TEM和SEM研究 | |
| 引用本文： | 李贻杰,任琮欣,陈国梁,邹世昌.外延生长YBa2Cu3O7-x超导薄膜的TEM和SEM研究[J].中国科学A辑,1993,36(1):92-96. |
| 作者姓名： | 李贻杰 任琮欣 陈国梁 邹世昌 |
| 作者单位： | 中国科学院上海冶金研究所所离子束开放实验室 上海 200050 |
| 摘 要： | 本文利用高分辨率透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)对高Jc外延生长YBa2Cu3O7-x超导薄膜的微观结构进行了观察分析.研究发现,薄膜外延程度的好坏与生长工艺和衬底表面的完整性有直接的关系.实验结果表明(100)SrTiO3单晶衬底上外延生长YBa2Cu3O7-x超导薄膜中影响临界电流密度Jc的因素主要有界面过渡区、缺陷和不同的外延取代等. |
| 关 键 词： | YBa2Cu3O7-x 外延生长 HREM 缺陷 |
| 点击此处可从《中国科学A辑》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《中国科学A辑》下载免费的PDF全文 | |