| 磁层顶电子剪切流K-H不稳定性 |
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| 引用本文： | 谢涛,陶鑫.磁层顶电子剪切流K-H不稳定性[J].中国科学技术大学学报,2009,39(1). |
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| 作者姓名： | 谢涛 陶鑫 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学技术大学地球与空间科学学院,安徽合肥,230026;成都理工大学工程技术学院核工系,四川乐山,614007
2. 中国科学技术大学地球与空间科学学院,安徽合肥,230026 |
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| 摘 要： | 磁层顶是由经过舷激波的太阳风和地磁层相互作用而形成的边界层,其上有电流流动.本文将这种电流看成电子剪切流,来讨论夜侧磁层顶的电子剪切流所引起的Kelvin-Helmholtz(K-H)不稳定性问题.电子剪切流受到的洛仑兹力中包括了电场的作用,正是这种作用使得剪切不稳定性要复杂一些.本文对电子剪切流激发的K-H不稳定性进行了细致的分析,从而得知,电子流剪切引起的K-H不稳定性倾向于在磁层顶内侧激发,并且只有当剪切速率在上下两阈值之间时,才可能激发K-H不稳定性.本文对比了夜侧近地磁层顶和磁尾磁层顶,发现当磁层顶两侧电子数密度之比恒定时,高电子数密度的磁层顶侧易产生K-H不稳定性.而磁鞘侧电子数密度n2与磁层侧电子数密度n1之比n2/n1的改变对不稳定性的影响也很显著:较大的n2/n1产生的K-H波主要是在低速区域,其有效增长率较小.
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| 关 键 词： | 等离子体 磁层顶 电子剪切流 K-H(Kelvin-Helmholtz)不稳定性 |
Kelvin-Helmholtz instability of sheared electron flow at the magnetopause |
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| XIE Tao,TAO Xin.Kelvin-Helmholtz instability of sheared electron flow at the magnetopause[J].Journal of University of Science and Technology of China,2009,39(1). |
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| Authors: | XIE Tao TAO Xin |
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