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离子注入法制备GaN∶Er薄膜的Raman光谱分析
作者姓名:陶东言  刘超  尹春海  曾一平
作者单位:中国科学院半导体研究所半导体材料科学重点实验室,北京 100083
基金项目:国家自然科学基金项目(60876004)资助
摘    要:对离子注入法制备的u-,n-和p-GaN∶Er三种类型的薄膜样品进行了Raman光谱分析。Er+注入GaN样品后新出现了293,362和670 cm-1等波数的Raman峰,其中293 cm-1处的Raman峰被指认为无序激活的Raman散射(DARS),362 cm-1和670 cm-1处的Raman峰可能与离子注入后形成的GaN晶格缺陷有关。上述GaN∶Er样品在800℃退火前后的E2(high)特征峰均向高频方向移动,表明薄膜晶格中均存在着压应力。采用洛伦兹拟合分析了Raman光谱中组成A1(LO)模式峰的未耦合LO模与等离子体激元耦合模LPP+在不同样品中的出现情况,定性指出了GaN∶Er系列样品中载流子浓度的变化规律。

关 键 词:氮化镓  离子注入  稀磁半导体  Raman光谱   
收稿时间:2012-08-28
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