采用放大的自发辐射光源测试光学薄膜的损伤阈值 |
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引用本文: | 周琼,张志祥,孙明营,姚玉东,彭宇杰,刘德安,朱健强.采用放大的自发辐射光源测试光学薄膜的损伤阈值[J].光学学报,2014(8). |
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作者姓名: | 周琼 张志祥 孙明营 姚玉东 彭宇杰 刘德安 朱健强 |
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作者单位: | 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理联合实验室; |
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摘 要: | 提出了一种精确评估光学薄膜损伤阈值的方法。放大的自发辐射(ASE)光源由于时间相干性和空间相干性较差,所以在近场区域光场强度分布均匀,聚焦后远场也没有被非均匀调制。采用ASE光束作为光学元件损伤阈值测试的辐照光源,可以提高辐照光源的均匀度,实现对光学薄膜损伤阈值的精确评估。ASE光源由神光II高功率激光装置的一级钕玻璃棒状放大器输出,脉宽经过光电开关调制后为9ns,能量输出在几毫焦耳到几十焦耳范围内可调节,光谱半峰全宽(FWHM)为1nm。根据标准ISO-11254,实验获得ASE测试TiO2高反膜的损伤阈值为15.1J/cm2,高于激光测试样品的损伤阈值7.4J/cm2(脉宽为9ns时),更准确地评估了样品的损伤阈值。
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关 键 词: | 激光光学 放大的自发辐射 部分相干性 损伤阈值测试 均匀的光强分布 |
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