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BN坩埚中的AlN单晶生长
引用本文:李娟,胡小波,姜守振,王英民,宁丽娜,陈秀芳,徐现刚,王继扬,蒋民华.BN坩埚中的AlN单晶生长[J].人工晶体学报,2006,35(2):435-436.
作者姓名:李娟  胡小波  姜守振  王英民  宁丽娜  陈秀芳  徐现刚  王继扬  蒋民华
作者单位:山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100
基金项目:国家自然科学基金(No.50472068),教育部新世纪优秀人才支持计划资助项目
摘    要:AlN是第三代直接宽带隙半导体材料的代表,具有宽带隙、高临界击穿电场、高热导率、高载流子饱和漂移速度等特点,在制作大功率微电子器件和紫外探测器等方面,具有广泛的应用前景。A lN在光电子领域的应用潜力也不容忽视。A lN作为GaN材料的衬底,与目前广泛使用的SiC和宝石衬底相

修稿时间:2006年1月9日

Growth of AlN Single Crystals in BN Crucible
LI Juan,HU Xiao-bo,JIANG Shou-zhen,WANG Ying-min,NING Li-na,CHEN Xiu-fang,XU Xian-gang,WANG Ji-yang,JIANG Min-hua.Growth of AlN Single Crystals in BN Crucible[J].Journal of Synthetic Crystals,2006,35(2):435-436.
Authors:LI Juan  HU Xiao-bo  JIANG Shou-zhen  WANG Ying-min  NING Li-na  CHEN Xiu-fang  XU Xian-gang  WANG Ji-yang  JIANG Min-hua
Abstract:
Keywords:
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