| 含氢类金刚石薄膜的生长及表征 |
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| 引用本文： | 陈明文. 含氢类金刚石薄膜的生长及表征[J]. 光谱实验室, 2008, 25(3): 462-464 |
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| 作者姓名： | 陈明文 |
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| 作者单位： | 厦门大学物理系,福建省厦门市恩明南路422号,361005 |
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| 摘 要： | 采用射频-等离子体辅助化学气相沉积(RF-PECVD)法在硅片、玻璃上生长类金刚石薄膜.通过Raman光谱、AFM等测试手段,研究不同的生长工艺条件下类金刚石薄膜的性质的变化.实验表明,RF-PECVD生长DLC膜,在上方电极处以及较低功率下可获得较高sp3含量的薄膜.
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| 关 键 词： | 类金刚石薄膜 拉曼光谱 等离子体增强化学气相沉积. |
| 文章编号： | 1004-8138(2008)03-0462-03 |
| 修稿时间： | 2008-03-17 |
Characterization of Diamond-Like Carbon Film Deposited by RF-PECVD |
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| CHEN Ming-Wen. Characterization of Diamond-Like Carbon Film Deposited by RF-PECVD[J]. Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory, 2008, 25(3): 462-464 |
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| Authors: | CHEN Ming-Wen |
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