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| 基于超精密激光直写系统制作二维光栅 | |
| 作者姓名： | 李民康 向显嵩 周常河 韦春龙 贾伟 项长铖 鲁云开 朱世曜 |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海201800;中国科学院大学材料与光电研究中心,北京100049;中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室,上海,201800;暨南大学光子技术研究院,广东广州,511443 |
| 基金项目： | 中国科学院前沿科学重点研究计划项目 |
| 摘 要： | 二维光栅是光刻机光栅尺系统的核心元件。搭建了超精密激光直写系统,基于二维超精密工件台,通过旋转基片90°进行两次曝光,制作出栅线密度为1200 line/mm的二维光栅掩模。原子力显微镜和扫描电镜结果表明,所制作的掩模轮廓清晰,空间分布均匀。实验结果证明了超精密激光直写系统能够制作出二维光栅掩模,在制作大尺寸、高精度二维计量光栅方面有着广阔的应用前景。 |
| 关 键 词： | 光栅 超精密系统 激光直写 栅距测量 |
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