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30℃~420℃黑体温度控制及自整定研究
引用本文:
胡铁力,王红红,李四维,曹锋,胡心漪,范喆,杨毓鑫,郭健,尤越,杨科,李辉,俞洋.30℃~420℃黑体温度控制及自整定研究[J].应用光学,2023,44(2):392-397.
作者姓名:
胡铁力
王红红
李四维
曹锋
胡心漪
范喆
杨毓鑫
郭健
尤越
杨科
李辉
俞洋
作者单位:
1.西安应用光学研究所 国防科技工业光学一级计量站,陕西 西安 710065
基金项目:
国防科技工业技术基础科研项目(JSJL2019208D001)
摘 要:
作为红外标准光源,要求30℃~420℃黑体能快速升温到设定温度点,并保持温度稳定。针对其升降温功率差别大、滞后大等特点,用开关控制冲击响应自整定方法,得到黑体温升超调量、最大升降温速率等参数,采用复合智能温控策略,实现了30℃~420℃黑体温升前期快,接近设置温度时改以渐进方式达到并稳定在设定温度点。实验结果表明,实现了30℃~420℃黑体无超调地到达设定温度点,且稳定性为±0.03℃/min,该指标达到了国际同类产品水平。
关 键 词:
温度控制
黑体
PID控制
大滞后系统
开关控制
自整定
阶跃响应
收稿时间:
2022-05-12
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