| 提拉法Ti:LiAlO2晶体的生长、缺陷及N2退火研究 |
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| 引用本文： | 黄涛华,周圣明,邹军,周健华,林辉,王军.提拉法Ti:LiAlO2晶体的生长、缺陷及N2退火研究[J].人工晶体学报,2007,36(6):1249-1252,1248. |
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| 作者姓名： | 黄涛华 周圣明 邹军 周健华 林辉 王军 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800;中国科学院研究生院,北京,100039
2. 中国科学院上海光学精密机械研究所,上海,201800 |
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| 基金项目： | 上海市浦江计划;中国科学院"百人计划" |
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| 摘 要： | 本文采用提拉法成功地生长了钛掺杂浓度为0.1%原子分数的LiAlO2单晶体,借助光学显微镜,结合化学腐蚀法,对Ti:LiAlO2晶体(100)面空气退火前后的缺陷特征进行了研究,用AFM观测了(100)面晶片在不同温度下流动N2气氛退火过的表面形貌。结果表明:Ti:LiAlO2晶体(100)面的位错腐蚀坑是底面为平行四边形的锥形坑,位错密度约为5.0×104cm-2,900℃空气退火后晶片表面的位错腐蚀坑变大;N2退火能显著影响晶片的表面形貌,当退火温度为900℃时,晶片的均方根粗糙度(RMS)达到最低值。
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| 关 键 词： | 化学腐蚀 N2退火 |
| 文章编号： | 1000-985X（2007）06-1249-04 |
| 收稿时间： | 2007-02-12 |
| 修稿时间： | 2007年2月12日 |
Study on the Growth,Defects and N2 Annealing of Ti:LiAlO2 Crystal |
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| HUANG Tao-hua,ZHOU Sheng-ming,ZOU Jun,ZHOU Jian-hua,LIN hui,WANG Jun.Study on the Growth,Defects and N2 Annealing of Ti:LiAlO2 Crystal[J].Journal of Synthetic Crystals,2007,36(6):1249-1252,1248. |
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| Authors: | HUANG Tao-hua ZHOU Sheng-ming ZOU Jun ZHOU Jian-hua LIN hui WANG Jun |
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| Keywords: | Ti:LiAlO2 |
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