| 辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 张毅,陈英颖,吴则嘉,刘晓晗,杨晟远,张林春.辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜的研究[J].理化检验(化学分册),2005,41(2):80-83,86. |
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| 作者姓名： | 张毅 陈英颖 吴则嘉 刘晓晗 杨晟远 张林春 |
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| 作者单位： | 上海交通大学,材料科学与工程学院,上海,200030;宝山钢铁股份有限公司,技术中心,上海,201900;上海维安新材料研究中心有限公司,上海,200082 |
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| 摘 要： | 介绍了利用辉光放电光谱法分析掺杂纳米硅薄膜，通过优化辉光光源激发参数、计算标准样品的溅射率，建立了掺杂纳米硅薄膜的定量表面分析方法。方法应用于实际掺杂纳米硅薄膜样品的分析，并将分析深度、剖析结果与表面形貌仪的结果进行了对照。试验结果表明，分析方法快速、准确，具有实际应用价值。
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| 关 键 词： | 辉光放电光谱法 掺杂纳米硅薄膜 溅射 |
| 文章编号： | 1001-4020(2005)02-0080-04 |
STUDY ON THE GLOW-DISCHARGE SPECTROMETRIC ANALYSIS OF DOPED NANO-CRYSTALLINE SILICON FILM |
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| ZHANG Yi,CHEN Ying-ying,WU Ze-jia,LIU Xiao-han,YANG Sheng-Yuan,ZHANG Lin-chun.STUDY ON THE GLOW-DISCHARGE SPECTROMETRIC ANALYSIS OF DOPED NANO-CRYSTALLINE SILICON FILM[J].Physical Testing and Chemical Analysis Part B:Chemical Analgsis,2005,41(2):80-83,86. |
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| Authors: | ZHANG Yi CHEN Ying-ying WU Ze-jia LIU Xiao-han YANG Sheng-Yuan ZHANG Lin-chun |
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| Institution: | ZHANG Yi~1,CHEN Ying-ying~2,WU Ze-jia~3,LIU Xiao-han~3,YANG Sheng-yuan~3,ZHANG Lin-chun~3 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Glow discharge spectrometry Hydrogenated-doped nanocrystalline silicon film Sputtering |
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