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基于磁控溅射离子镀技术的不同晶态纯Cr薄膜微观组织结构研究
引用本文:李洪涛,蒋百灵,杨波,曹政.基于磁控溅射离子镀技术的不同晶态纯Cr薄膜微观组织结构研究[J].人工晶体学报,2011,40(2):532-536.
作者姓名:李洪涛  蒋百灵  杨波  曹政
作者单位:西安理工大学材料科学与工程学院,西安,710048
基金项目:陕西省重点学科建设专项资金,西安理工大学优秀博士学位论文研究基金
摘    要:基于磁控溅射离了镀技术,制备了不同晶态结构的纯Cr薄膜,分析了电场环境对纯Cr薄膜品态结构影响的客观规律;结合溅射原理和薄膜生长原理揭示了电场环境对纯Cr薄膜生长过程影响的内在机理;探讨了磁控溅射离子镀技术在工程材料的纳米化、非晶化进程中应有的功能,旨在为纳米材料的研发及其制备技术的创新提供参考依据.

关 键 词:柱状晶  等轴晶  纳米晶  非晶  

Study on Microstructures of Pure Cr Films with Different Crystalline Deposited by Magnetron Sputter Ion Plating
LI Hong-tao,JIANG Bai-ling,YANG Bo,CAO Zheng.Study on Microstructures of Pure Cr Films with Different Crystalline Deposited by Magnetron Sputter Ion Plating[J].Journal of Synthetic Crystals,2011,40(2):532-536.
Authors:LI Hong-tao  JIANG Bai-ling  YANG Bo  CAO Zheng
Abstract:
Keywords:
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