| 含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能 |
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| 引用本文： | 张立眉,高建峰,张立成,王赫. 含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能[J]. 合成化学, 2016, 24(6): 507-509. DOI: 10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.2016.06.15328 |
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| 作者姓名： | 张立眉 高建峰 张立成 王赫 |
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| 作者单位： | 1. 中国铝业公司，北京 100082； 2. 中北大学 理学院 化学系，山西 太原 030051； 3. 中国航天科工集团第四研究院，湖北 武汉 430040 |
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| 摘 要： | 对羟基苯甲醛与对胺基苯甲酸缩合制得刚性基元（1）；3-溴丙烯与对羟基苯甲酸经取代反应制得对烯丙氧基苯甲酸（2）； 2经加成和酰氯化后，与1经酯化反应合成了含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶（5），其结构经IR确证。对5的液晶性能进行了测试。结果表明：5属于近晶型条带织构； 5具有较高的熔点和清亮点温度，液晶区间在180.34～251.11 ℃。
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| 关 键 词： | 聚硅氧烷 席夫碱 液晶 条带织构 合成 液晶性能 |
| 收稿时间： | 2015-06-23 |
Synthesis and Liquid Crystalline Properties of Carboxylic Schiff Base Polysiloxane Liquid Crystal |
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| Abstract: | The gigid primitive(1) was prepared by coupling reaction of p-hydroxy benzaldehyde with para-aminobenzoic acid. The substitution of 3-allyl bromide and para hydroxy benzoic acid resulted in 4-(allyloxy)benzoic acid(2), which was reacted by addition and acylating chlorination, and then es-terificated with 1 to obtain Schiff base polysiloxane crystal ( 5 ) . The structure was confirmed by IR. The liquid crystalline property was tested. DSC demonstrated that 5 belonged to sematic banded tex-ture5and had high melting point and clear temperature. The liquid crystal interval was 180. 34 ~251 . 11 ℃. |
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| Keywords: | polysiloxane Schiff base liquid crystal banded texture synthesis liquid crystalline property |
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