| 金刚石镀膜装置中的等离子体参数测量 |
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| 引用本文： | 李辉,李俊峰,夏维东,万树德,汪海. 金刚石镀膜装置中的等离子体参数测量[J]. 核聚变与等离子体物理, 2000, 20(3): 189-192 |
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| 作者姓名： | 李辉 李俊峰 夏维东 万树德 汪海 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学,合肥,230026;中国科学技术大学,合肥,230026;中国科学技术大学,合肥,230026;中国科学技术大学,合肥,230026;中国科学技术大学,合肥,230026 |
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| 摘 要： | 利用平行马赫探针和单探针对金刚石镀膜装置中的等离子体漂移速度、,离子密度及电子温度进行了测量,采用ＣｈｕｎｇＫｙｕ－Ｓｕｎ理论对平行马赫探针数据进行分析得到的马赫数为０．２８,电子温度为５ｅＶ,等离子体流速约为９８０ｍ．ｓ＾－１。单探针测行离子密度在１０＾１８～１０＾２０ｍ＾－３的范围内,电子温度在２－８ｅＶ的范围内。
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| 关 键 词： | 单探针 平行马赫探针 马赫数 等离子体漂移速度 电子温度 离子密度 |
| 修稿时间： | 2000-01-20 |
MEASUREMENT OF PLASMA PARAMETERS IN A DIAMOND COATING DEVICE |
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| LI Hui,LI Jun-feng,XIA Wei-dong,WAN Shu-de,WANG Hai. MEASUREMENT OF PLASMA PARAMETERS IN A DIAMOND COATING DEVICE[J]. Nuclear Fusion and Plasma Physics, 2000, 20(3): 189-192 |
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| Authors: | LI Hui LI Jun-feng XIA Wei-dong WAN Shu-de WANG Hai |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Single probe Parallel Mach probe Mach number Plasma drift velocity Electron temperature Ion density |
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