| 氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究 |
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| 引用本文： | 龚力,刘笑,谢方艳,张卫红,陈建. 氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的光电子能谱研究[J]. 分析测试学报, 2009, 28(1) |
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| 作者姓名： | 龚力 刘笑 谢方艳 张卫红 陈建 |
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| 作者单位： | 中山大学,测试中心,广东,广州,510275 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，广东省自然科学基金，中山大学青年教师科研启动基金 |
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| 摘 要： | 利用X射线光电子能谱(XPS)及氩离子刻蚀技术,原位研究了氩离子轰击对三氧化钨纳米线薄膜的还原作用,钨的价态由+6价逐渐被还原为0价,并获得了具有多价态结构的氧化钨薄膜.通过对实验结果的分析,定性描述了氩离子轰击还原三氧化钨纳米线薄膜的原理,认为择优溅射在整个还原过程中起着关键作用.
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| 关 键 词： | 氧化钨 纳米线 光电子能谱 氩离子轰击 |
Study on the Reduction of Tungsten Trioxide Nanowire Films by Argon Ion Bombardment with X-ray Photoelectron Spectrometry |
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| GONG Li,LIU Xiao,XIE Fang-yan,ZHANG Wei-hong,CHEN Jian. Study on the Reduction of Tungsten Trioxide Nanowire Films by Argon Ion Bombardment with X-ray Photoelectron Spectrometry[J]. Journal of Instrumental Analysis, 2009, 28(1) |
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| Authors: | GONG Li LIU Xiao XIE Fang-yan ZHANG Wei-hong CHEN Jian |
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