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| 场冷和零场冷过程中磁化强度的模型化与数值模拟 | |
| 作者姓名： | 李世亮 闻海虎 赵忠贤 |
| 作者单位： | 中科院物理研究所国家超导实验室，凝聚态中心!北京100080，中科院物理研究所国家超导实验室，凝聚态中心!北京100080，中科院物理研究所国家超导实验室，凝聚态中心!北京100080 |
| 摘 要： | 通过采用蒙特卡罗模拟方法和磁通运动的热激活模型（ＴＡＦＭ） ，本文计算了在场冷（ＦＣ）和零场冷（ＺＦＣ） 过程中的磁场位形及磁化强度．基于简单的ＫｉｍＡｎｄｅｒｓｏｎ 模型的Ｕ（ｊ） 依赖关系，主要的实验结果都可以较好的被模拟．计算表明，在零场冷中，磁场位形非常接近Ｂｅａｎ 临界态模型，而在场冷中则相反，表现的是磁通冻结的图象．零场冷和场冷中的磁化强度都很强的依赖于钉扎势和临界电流密度，而只微弱的依赖于温度变化的速度 |
| 关 键 词： | 场冷 零场冷 超导体 磁化强度 模型化 数值模拟 |
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