首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      


Kinetics and mechanism of OsO4 catalyzed oxidation of chalcones by Ce4 in aqueous acetic sulfuric acid media
Authors:P V Srinivasulu  M Adinarayana  B Sethuram and T Navaneeth Rao
Institution:(1) Department of Chemistry, Osmania University, 500007 Hyderabad, A. P., India
Abstract:Kinetics of OsO4 catalyzed oxidation of chalcones by Ce4+ has been studied in aqueous acetic-sulfuric acid medium in the temperature range 313 to 338 K. The order in oxidant] is zero while the order with respect to substrate] and catalyst] are each fractional. The rate of the reaction decreased with increase in percentage of acetic acid while H+] had practically no effect on the rate The rates of various substituted chalcones (with substituents in the phenyl. ring attached to the moiety) are in the orderp-CH3>m-CH3>H>p-Cl>m-Cl>m-NO2>p-NO2. A mechanism in which formation of a cyclic ester between chalcone and OsO4 in a fast step followed by its decomposition in a rate-determining step is envisaged.
Kcyicyncyiecytcyicykcyacy ocykcyicyscylcyiecyncyicyyacy khcyacylcykcyocyncyocyvcy icyocyncyocymcy Ce4+, kcyacytcyacylcyicyzcyicyrcyocyvcyacyncyncyacy yacy OsO4, bcyycylcyacy icyscyscylcyiecydcyocyvcyacyncyacy vcy vcyocydcyncyocyjcy ucykcyscyucyscyncyocykcyicyscylcyocyjcy-scyiecyrcyncyocykcyicyscylcyocyjcy scyrcyiecydcyiecy icy vcy icyncytcyiecyrcyvcyacylcyiecy tcyiecymcypcyiecyrcyacytcyucyrcy 313–338 Kcy. Pcyocyrcyyacydcyocykcypcyocy ocykcyicyscylcyicytcyiecylcyyucyncyucylcyiecyvcyocyjcy, acy pcyocy scyucybcyscytcyrcyacytcyucy icy kcyacytcyacylcyicyzcyacytcyocyrcyucydcyrcyocybcyncyycyjcy. Scykcyocyrcyocyscytcysoftcy rcyiecyacykcytscyicyicy ucymcyiecyncysoftcyshcyacyiecytcyscyyacy scy ucyvcyiecylcyicychcyiecyncyicyiecymcy pcyrcyocytscyiecyncytcyncyocyscytcyicy ucykcyscyucyscyncyocyjcy kcyicyscylcyocytcyycy, vcy tcyocy vcyrcyiecymcyyacy kcyacykcy H+] pcyrcyacykcytcyicychcyiecyscykcyicy ncyiecy ocykcyacyzcyycyvcyacyiecytcy ecyfcyfcyiecykcytcyacy ncyacy scykcyocyrcyocyscytcysoftcy. Scykcyocyrcyocyscytcyicy dcylcyyacy rcyacyzcylcyicychcyncyycykhcy zcyacymcyiecyshchcyiecyncyncyycykhcy khcyacylcykcyocyncyocyvcy (scy zcyacymcyiecyscytcyicytcyiecylcyyacymcyicy vcy fcyiecyncyicylcysoftcyncyocymcy kcyocylcysoftcytscyiecy, pcyrcyicyscyocyiecydcyicyncyiecyncyncyycymcyicy kcy ncyacykhcyocydcyyacytcyscyyacy vcy scylcyiecydcyucyyucyshchcyiecymcy pcyocyrcyyacydcykcyiecy: ncy-CH3>mcy-CH3>H>ncy-Cl>mcy-NO2>ncy-NO2. Pcyrcyiecydcylcyacygcyacyiecytcyscyyacy mcyiecykhcyacyncyicyzcymcy, scyocygcylcyacyscyncyocy kcyocytcyocyrcyocymcyucy zcyacy ocybcyrcyacyzcyocyvcyacyncyicyiecymcy tscyicykcylcyicychcyiecyscykcyocygcyocy ecyfcyicyrcyacy mcyiecyzhcydcyucy khcyacylcykcyocyncyocymcy icy OsO4 ncyacy bcyycyscytcyrcyocyjcy scytcyucypcyiecyncyicy scylcyiecydcyucyiecytcy iecygcyocy rcyacyzcylcyocyzhcyiecyncyicyiecy, yacyvcylcyyacyyucyshchcyiecyiecyscyyacy scytcyucypcyiecyncysoftcyyucy, lcyicymcyicytcyicyrcyucyyucyshchcyiecyjcy scykcyocyrcyocyscytcysoftcy rcyiecyacykcytscyicyicy.
Keywords:
本文献已被 SpringerLink 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号