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| PECVD制备光学薄膜材料折射率控制技术 | |
| 引用本文： | 薛俊,杭凌侠,刘昊轩.PECVD制备光学薄膜材料折射率控制技术[J].光学技术,2014,40(4):353. |
| 作者姓名： | 薛俊 杭凌侠 刘昊轩 |
| 作者单位： | 薛俊:西安工业大学, 陕西 西安 710032陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室, 陕西 西安 710032 杭凌侠:西安工业大学, 陕西 西安 710032陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室, 陕西 西安 710032 刘昊轩:西安工业大学, 陕西 西安 710032陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室, 陕西 西安 710032 |
| 摘 要： | 渐变折射率光学薄膜用途广泛,PECVD技术在制备渐变折射率光学薄膜方面具有独特的优点。通过控制不同反应气体配比变化,分析了反应气体配比变化与所制备的薄膜折射率、消光系数和沉积速率之间的关系,讨论了薄膜折射率、消光系数和沉积速率变化的原因,研制了折射率可控的氟氧化硅(SiOxFy)、氮氧化硅(SiOxNy)、氮化硅(SixNy)等薄膜材料,获取了折射率在1.33~2.06之间的光学薄膜材料。 |
| 关 键 词： | 光学薄膜 PECVD 折射率控制 |
| 收稿时间： | 2013/10/6 |
Study on controlled refractive index of optical thin films by PECVD |
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| Abstract: | |
| Keywords: | optical thin film PECVD controlled refractive index |
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