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浓硫酸脱水还原制备石墨烯及其电容性能
引用本文:罗民,丁肖怡,窦元运,赵亮,梁斌,梁军.浓硫酸脱水还原制备石墨烯及其电容性能[J].无机化学学报,2013,29(18).
作者姓名:罗民  丁肖怡  窦元运  赵亮  梁斌  梁军
作者单位:宁夏大学化学化工学院, 银川 750021;宁夏大学化学化工学院, 银川 750021;宁夏大学化学化工学院, 银川 750021;宁夏大学化学化工学院, 银川 750021;宁夏大学化学化工学院, 银川 750021;宁夏大学化学化工学院, 银川 750021
基金项目:国家自然科学基金(No.21361020);宁夏自然科学基金资助项目(No.NZ12156);中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室开放课题研究基金(N-09-13);宁夏大学提升综合实力建设项目(No.8016-18)资助项目。
摘    要:利用浓硫酸的脱水性能,在低温下快速处理氧化石墨烯得到硫酸脱水还原石墨烯材料。研究了不同处理方法对材料结构和电容性能的影响。结果表明:一步浓硫酸脱水法对氧化石墨烯的还原效果和水合肼相当;经过稀硫酸开环预处理后,浓硫酸(70 ℃, 30 min)对氧化石墨烯表面含氧官能团的脱除效果更加明显。两步硫酸脱水还原法得到样品的还原程度更高,堆积层数少;形成的石墨微晶区域的数量多,尺寸小。电容测试结果表明,对比于传统的水合肼还原法,浓硫酸脱水法得到的石墨烯材料有更好的电化学性能;两步浓硫酸脱水法得到石墨烯电极材料的比电容为321.8 F·g-1,经1000次循环伏安测试后,电容保持率为89.7%。

关 键 词:多层石墨烯  浓硫酸  脱水还原  开环反应  电化学性能

Influence of the Sulfuric Acid Dehydration Process on the Performance of Graphene-based Capacitors
LUO Min,DING Xiao-Yi,DOU Yuan-Yun,ZHAO Liang,LIANG Bin and LIANG Jun.Influence of the Sulfuric Acid Dehydration Process on the Performance of Graphene-based Capacitors[J].Chinese Journal of Inorganic Chemistry,2013,29(18).
Authors:LUO Min  DING Xiao-Yi  DOU Yuan-Yun  ZHAO Liang  LIANG Bin and LIANG Jun
Institution:School of chemistry and Chemical Engineering, Ningxia University, Yinchuan 750021, China;School of chemistry and Chemical Engineering, Ningxia University, Yinchuan 750021, China;School of chemistry and Chemical Engineering, Ningxia University, Yinchuan 750021, China;School of chemistry and Chemical Engineering, Ningxia University, Yinchuan 750021, China;School of chemistry and Chemical Engineering, Ningxia University, Yinchuan 750021, China;School of chemistry and Chemical Engineering, Ningxia University, Yinchuan 750021, China
Abstract:
Keywords:multilayer grapheme  concentrated sulfuric acid  dehydration  ring-opening reaction  supercapacitor
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