| 氢化非晶硅薄膜的电场诱导锂离子注入及其光伏特性 |
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| 引用本文： | 王宝辉 耿新华. 氢化非晶硅薄膜的电场诱导锂离子注入及其光伏特性[J]. 应用化学, 1995, 12(1): 5-8 |
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| 作者姓名： | 王宝辉 耿新华 |
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| 作者单位： | 吉林大学化学系，南开大学光电子研究所 |
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| 基金项目： | 国家科委“八五”攻关资助课题 |
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| 摘 要： | ![]()
采用电化学方法，在电场诱导下，对氢化非晶硅（ａ－Ｓｉ：Ｈ）薄膜进行锂离子注入，并用光电化学方法对不同条件下处理的ａ－Ｓｉ：Ｈ薄膜的光伏性质和注入机理进行了研究。结果表明，处理电位小于－０．６０Ｖ时，理离子注入明显，经过注入的薄膜光伏响应提高６０％左右．
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| 关 键 词： | 非晶硅薄膜，锂离子注入，光伏响应 |
| 收稿时间： | 1994-03-21 |
Li+Ion Implantation into a-Si:H Film under Inducement of Electric Field and the Photovoltalc Property |
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| Wang Baohui,Wang Dejun,Li Tiejin. Li+Ion Implantation into a-Si:H Film under Inducement of Electric Field and the Photovoltalc Property[J]. Chinese Journal of Applied Chemistry, 1995, 12(1): 5-8 |
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| Authors: | Wang Baohui Wang Dejun Li Tiejin |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | hydrogenated amorphous silicon film Li+ ion implantation ohotovoltage re-sponse |
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