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脉冲激光沉积法制备的Ni1-xFexO稀磁半导体的结构和磁性研究
引用本文:翁卫祥,闫文盛,孙治湖,姚涛,郭玉献,王峰,韦世强,张国斌,徐彭寿. 脉冲激光沉积法制备的Ni1-xFexO稀磁半导体的结构和磁性研究[J]. 物理学报, 2008, 57(9)
作者姓名:翁卫祥  闫文盛  孙治湖  姚涛  郭玉献  王峰  韦世强  张国斌  徐彭寿
摘    要:利用脉冲激光沉积方法制备出了具有室温铁磁性的Ni1-1-xFexO(x=0.02,O.05)稀磁半导体.X射线衍射(XRD)结果表明Ni,1-xFexO的品体结构为Nacl结构,并且在Fe含量较高的Ni095Fe0.05O中出现了少量的a-Fe2O3物相.X射线吸收近边结构谱(XANFS)和X射线光电子能谱(XPs)进一步表明了掺杂的Fe原子替代Ni0日格中Ni原子,并且样品中不存在能够诱导室温磁性的第二相.这些研究结果表明Ni1-xFexO的室温铁磁性是本征的.

关 键 词:脉冲激光沉积方法

Structural and magnetic properties of Ni1-x FexO thin films synthesized by pulsed laser deposition
Weng Wei-Xiang,Yan Wen-Sheng,Sun Zhi-Hu,Yao Tao,Guo Yu-Xian,Wang Feng,Wei Shi-Qiang,Zhang Guo-Bin,Xu Peng-Shou. Structural and magnetic properties of Ni1-x FexO thin films synthesized by pulsed laser deposition[J]. Acta Physica Sinica, 2008, 57(9)
Authors:Weng Wei-Xiang  Yan Wen-Sheng  Sun Zhi-Hu  Yao Tao  Guo Yu-Xian  Wang Feng  Wei Shi-Qiang  Zhang Guo-Bin  Xu Peng-Shou
Abstract:
Keywords:Ni1-xFexO  xANES
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