常规溅射MoS_2膜与共溅MoS_2—Ni膜的特性比较

在许多应用中显然需要薄的干润滑膜,而溅射是理想的适合于提供这样的涂层的工艺过程。由于在这个过程中用了高能量,难免发生一些化学计量损耗和结构偏差。据观察,精确控制过程参数可以大大地减少化学计量的偏差,与MoS_2同时共溅其它材料显然有助于膜的结构生长。鉴于这些观察结果,这个报告比较了常规溅射MoS_2涂层和MoS_2+Ni共溅涂层,比较是在滑动磨损条件下用不同试验速度、负荷和涂层厚度进行的。