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表面杂质诱导薄膜元件的热应力损伤EI北大核心CSCD
引用本文:徐娇陈丽霞游兴海张彬.表面杂质诱导薄膜元件的热应力损伤EI北大核心CSCD[J].光学学报,2017(6):137-144.
作者姓名:徐娇陈丽霞游兴海张彬
作者单位:1.四川大学电子信息学院610064;
基金项目:苏州大学省级重点实验室开放课题(KSJ1404);科技部创新人才推进计划重点领域创新团队(2014RA4051)
摘    要:基于薄膜元件的热力学理论,建立了强激光连续辐照下薄膜元件的热分析模型,模拟了薄膜元件表面杂质吸热后向周围薄膜进行热传递的过程,并讨论了表面洁净度等级和杂质尺寸对薄膜元件热应力损伤的影响。研究结果表明:强激光连续辐照下,表面杂质会吸收激光能量产生较大的温升,激光辐照时间越长,功率密度越大,杂质的温升也越大;吸热后,达到熔点的杂质和未达到熔点的杂质分别通过热传导和热辐射的方式向周围薄膜传递热量,通过热传导作用在薄膜元件表面引起的温升明显高于热辐射作用引起的;杂质向周围薄膜传递热量后会在薄膜元件上产生非均匀的温度梯度,进而产生热应力,热应力随着温度梯度的增加而增大,且处于一定尺寸范围内的杂质,更容易诱导薄膜元件热应力损伤;此外,薄膜元件的表面洁净度等级越高,杂质粒子的数目越多,越易于造成薄膜元件的热应力损伤。

关 键 词:激光光学  表面杂质  薄膜元件  热应力
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