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| 双离子束溅射沉积HfO2光学薄膜的研究 | |
| 引用本文： | 张文杰, 彭玉峰, 王建成, 等. 双离子束溅射沉积HfO2光学薄膜的研究[J]. 强激光与粒子束, 2007, 19(09). |
| 作者姓名： | 张文杰 彭玉峰 王建成 程祖海 |
| 作者单位： | 1.玉林师范学院 物理与信息科学系, 广西 玉林 537000;;;2.河南师范大学 物理与信息工程学院, 河南 新乡 453007;;;3.深圳市深新隆实业有限公司, 广东 深圳 51 8055;;;4.华中科技大学 光电子科学与工程学院, 武汉 430074 |
| 摘 要： | 用双离子束溅射沉积氧化铪光学薄膜,并对此工艺下制备的氧化铪薄膜进行了光学性质、残余应力、结构特性以及激光损伤特性的研究。实验结果表明,用双离子束溅射沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,膜层致密,无定形结构,而且具有极低的散射和吸收,均匀的非晶结构,杂质缺陷少,激光损伤阈值高。 |
| 关 键 词： | 双离子束溅射沉积 氧化铪薄膜 激光损伤阈值 残余应力 |
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