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离子注入层的X射线光电子能谱分析
引用本文:杨建华.离子注入层的X射线光电子能谱分析[J].光谱实验室,2001,18(3):398-400.
作者姓名:杨建华
作者单位:南通工学院
基金项目:国家自然科学基金!(5 96 710 5 1),南通工学院资助项目!(代号 :0 110 7)
摘    要:采用金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子源发出的强束流脉冲钨离子,对H13钢进行了离子注入表面改性研究,借助X射线光电子能谱(XPS)考察了注入表面层中钨,氧,铁的化学状态,研究发现,钨离子注入层中钨元素以替位钨和三氧化钨形式存在,铁元素以金属铁和三氧化二铁形式出现,而且各价态元素的原子比随深度而变化。

关 键 词:X射线光电子能谱  离子注入  H13钢  表面改性  离子注入层  钨离子
文章编号:1004-8138(2001)03-0398-03
修稿时间:2001年2月19日

XPS Analysis of Ion Implantation Layer
YANG Jian-Hua.XPS Analysis of Ion Implantation Layer[J].Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory,2001,18(3):398-400.
Authors:YANG Jian-Hua
Abstract:W ions extracted from a metal vapor vacuum arc ion source were implanted into H13 steel,with an implantation dose of 3×1017cm-2,extraction acceleration 30kV,and average ion beam flux about 15μA*cm-2.Observation of chemical structure of W,Fe, O elements in H13 steel was carried out by X-ray photoelectron spectroscopy(XPS).Experimental results show that the oxidation of Fe is lightened after W ion implantation.The oxidation mechanisms of H13 was discussed according to the experimental results.
Keywords:X\|Ray Photoelectron Spectroscopy  Ion Implantation  Oxidation  
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