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Line-scan sequential lateral solidification of Si thin films
Authors:R.S. Sposili  J.S. Im
Affiliation:(1) Program in Materials Science, Columbia University, 500 W. 120th St., 1106 S.W. Mudd, New York, NY 10027, USA (Fax: +1-212/854-7081, E-mail: rss28@columbia.edu; ji12@columbia.edu), US
Abstract:Received: 14 April 1998/Accepted: 22 April 1998
Keywords:PACS: 64.70.Dv   81.10.-h   85.40.Hp
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