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基于XRD光谱法的光参量振荡铌酸锂晶体SiO_2薄膜损伤研究
引用本文:牛瑞华,韩敬华,罗晋,卢峰,朱启华,李彤,杨李茗,冯国英,周寿桓.基于XRD光谱法的光参量振荡铌酸锂晶体SiO_2薄膜损伤研究[J].光谱学与光谱分析,2010,30(12).
作者姓名:牛瑞华  韩敬华  罗晋  卢峰  朱启华  李彤  杨李茗  冯国英  周寿桓
基金项目:国家自然科学基金重大项目,国家自然科学基金委员会--中国工程物理研究院联合基金项目,四川大学青年教师科研启动基金项目
摘    要:针对参量振荡过程中铌酸锂表面的增透薄膜的损伤问题,采用了XRD光谱法和形貌观测法对激光诱导薄膜损伤的形貌及其物理过程进行了深入地分析。观测发现:薄膜损伤点的特征是膜面出现凹陷的点坑,周围分散着由厚到薄变化的沉积层,XRD光谱检测显示出现了薄膜材料的晶化。利用杂质缺陷诱导薄膜损伤模型对以上损伤的形貌成因进行了分析。研究表明:杂质粒子对激光脉冲能量的强烈吸收会引起邻近光学材料的迅速熔化、汽化和电离,形成复杂物态结构混合物;在激光等离子体冲击波作用下,混合物发生喷溅扩散形成凹陷坑。在扩散冷却过程中沉积物会发生结晶,X射线衍射显示出薄膜材料SiO2晶态的衍射峰。

关 键 词:XRD光谱  光学参量振荡器(OPO)  缺陷诱导薄膜损伤  激光等离子体冲击波

Study on the Damage of Si02 Thin Films on LiNb03 Crystal in Optical Parametric Oscillator by XRD Spectrometry
NIU Rui-hua,HAN Jing-hua,LUO Jin,LU Feng,ZHU Qi-hua,LI Tong,YANG Li-ming,FENG Guo-ying,ZHOU Shou-huan.Study on the Damage of Si02 Thin Films on LiNb03 Crystal in Optical Parametric Oscillator by XRD Spectrometry[J].Spectroscopy and Spectral Analysis,2010,30(12).
Authors:NIU Rui-hua  HAN Jing-hua  LUO Jin  LU Feng  ZHU Qi-hua  LI Tong  YANG Li-ming  FENG Guo-ying  ZHOU Shou-huan
Abstract:
Keywords:
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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