| BSRF上同步辐射深度光刻的实验研究 |
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| 引用本文： | 彭良强,伊福廷,韩勇,张菊芳.BSRF上同步辐射深度光刻的实验研究[J].中国物理 C,2001,25(Z1):128-130. |
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| 作者姓名： | 彭良强 伊福廷 韩勇 张菊芳 |
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| 作者单位： | 彭良强（中国科学院高能物理研究所,北京,100039）;伊福廷（中国科学院高能物理研究所,北京,100039）;韩勇（中国科学院高能物理研究所,北京,100039）;张菊芳（中国科学院高能物理研究所,北京,100039） |
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| 基金项目： | 国家攀登计划和中国科学院专项基金资助 |
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| 摘 要： | 大结构深度和高深宽比是同步辐射深度光刻的突出优点.提出采用现有掩模,进行多次曝光、显影的方法,实验获得厚2.2mm的胶结构.系列研究掩模、光刻胶、基底、光谱和光强对深宽比的影响,实验获得深宽比104的胶结构.
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| 关 键 词： | 同步辐射深度光刻 超深结构 高深宽比 |
Study on Synchrotron Radiation Lithography at BSRF |
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| Keywords: | |
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