|
|||||
|
|
| 砷注入硅的激光退火和热退火特性 | |
| 引用本文： | 刘尚合, 卢武星, 姬成周, 张通和. 砷注入硅的激光退火和热退火特性[J]. 物理, 1980, 9(6). |
| 作者姓名： | 刘尚合 卢武星 姬成周 张通和 |
| 作者单位： | 北京师范大学低能核物理研究所 |
| 摘 要： | 一、引言采用高功率的激光束辐照离子注入硅样品能够获得比热退火优越的电特性．利用离子束背散射分析技术，能够进行定量的非破坏性测量．一般说来，测量本身不会带来负效应[１］．本工作采用离子束背散射技术和电特性测量，对注有砷离子的硅样品的退火行为进行了比较和分析．发现用大剂量（１×１０１６／ｃｍ２）注入的样品在１０００℃下，经２０分钟退火后，能够获得一个接近于理想的突变结．而红宝石脉冲激光退火，无论从.... |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《物理》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《物理》下载全文 | |