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退火对高Co含量Ti1-xCoxO2磁性半导体的影响
引用本文:宋红强,王 勇,颜世申,梅良模,张 泽.退火对高Co含量Ti1-xCoxO2磁性半导体的影响[J].物理学报,2008,57(7):4534-4538.
作者姓名:宋红强  王 勇  颜世申  梅良模  张 泽
作者单位:(1)北京工业大学,北京 100022; (2)山东大学威海分校空间科学与应用物理系,威海 264209;山东大学物理与微电子学院,济南 250100; (3)山东大学物理与微电子学院,济南 250100; (4)中国科学院物理研究所,北京 100190;澳大利亚昆士兰大学工学院,澳大利亚
基金项目:国家自然科学基金(批准号:10234010,50102019)资助的课题.
摘    要:利用磁控溅射仪制备了高Co含量的Ti1-xCoxO2磁性半导体样品,并对样品分别在200℃,300℃和400℃进行退火研究.使用透射电子显微镜(TEM)对退火前后样品的结构进行表征,并用X射线光电子能谱(XPS)对退火前后样品中Co元素的化学状态进行鉴定.结果表明高Co含量的Ti1-xCoxO2磁性半导体处于一种亚稳状态,300℃以上的温度便使其结构与成分发生巨大变化.利用超导量子干涉磁强计(SQUID)测量退火前后样品的磁特性,结果表明样品的磁性有了明显的变化,这源于磁性产生的不同机理. 关键词: 磁性半导体 退火 磁性

关 键 词:磁性半导体  退火  磁性
收稿时间:2007-10-09

Effect of annealing on the high Co-doped Ti1-xCoxO2 magnetic semiconductor
Song Hong-Qiang,Wang Yong,Yan Shi-Shen,Mei Liang-Mo and Zhang Ze.Effect of annealing on the high Co-doped Ti1-xCoxO2 magnetic semiconductor[J].Acta Physica Sinica,2008,57(7):4534-4538.
Authors:Song Hong-Qiang  Wang Yong  Yan Shi-Shen  Mei Liang-Mo and Zhang Ze
Abstract:High Co doping concentration Ti1-xCoxO2 magnetic semiconductor films were prepared by rf co-sputtering and then annealed for 2 hours at 200℃, 300℃ and 400℃ respectively. Microstructure and composition analysis by transmission electron microscopy (TEM) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) indicated that the films were in the metastable state and the annealing has large effect on their microstructure, composition and magnetism.
Keywords:magnetic semiconductor  annealing  magnetism
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