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HL—1M装置杂质VUV辐射及Te观测
作者姓名:李可华 王全明
摘    要:
本文介绍了HL-1M装置等离子体杂质真空紫外辐射观测的初步结果。用类Li离子谱线强度比法估计出Te≈400eV。镀膜后遥CEM探测器的灵敏度提高。杂质对装置放电有重要影响。

关 键 词:等离子体 杂质 托卡马克装置 HL-1M VUV辐射
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