| 非晶Si/SiO-2超晶格的制备及其光谱研究 |
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| 引用本文： | 刘宁宁,孙甲明,潘少华,陈正豪,王荣平,师文生,王晓光. 非晶Si/SiO-2超晶格的制备及其光谱研究[J]. 物理学报, 2000, 49(5) |
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| 作者姓名： | 刘宁宁 孙甲明 潘少华 陈正豪 王荣平 师文生 王晓光 |
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| 作者单位： | 中国科学院物理研究所光物理开放实验室,北京,100080;中国科学院凝聚态物理中心,北京,100080 |
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| 摘 要： | 用磁控溅射方法在玻璃基底上制备了非晶Si/SiO2超晶格.利用透射电子显微镜 (TEM) 和X射线衍射技术对其结构进行了分析,结果表明,超晶格中Si层大部分区域为非晶相,局域微区呈现有序结构,其厚度由1.8-3.2nm变化,SiO2层厚度为4.0nm.并采用多种光谱测量技术,如吸收光谱、光致发光光谱和Raman光谱技术,对该结构的光学性质进行了系统研究.结果表明,随纳米Si层厚度的减小,光学吸收边以及光致荧光峰发生明显蓝移,Raman峰发生展宽,即观测到明显的量子尺寸效应.
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FABRICATION AND SPECTROSCOPIC STUDIES OF a-Si/SiO-2 SUPERLATTICES |
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| LIU NING-NING,SUN JIA-MING,PAN SHAO-HUA,CHEN ZHENG-HAO,WANG RONG-PING,SHI WEN-SHENG,WANG XIAO-GUANG. FABRICATION AND SPECTROSCOPIC STUDIES OF a-Si/SiO-2 SUPERLATTICES[J]. Acta Physica Sinica, 2000, 49(5) |
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| Authors: | LIU NING-NING SUN JIA-MING PAN SHAO-HUA CHEN ZHENG-HAO WANG RONG-PING SHI WEN-SHENG WANG XIAO-GUANG |
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