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具有二氧化硅温度补偿层的薄膜体声波谐振器的建模与分析(英)
引用本文:高杨, 周斌, 何移, 等. 具有二氧化硅温度补偿层的薄膜体声波谐振器的建模与分析(英)[J]. 强激光与粒子束, 2015, 27: 014103. doi: 10.11884/HPLPB201527.014103
作者姓名:高杨  周斌  何移  何婉婧
作者单位:1.中国工程物理研究院 电子工程研究所, 四川 绵阳 621 900;;;2.西南科技大学 信息工程学院, 四川 绵阳 621 01 0;;;3.重庆大学 新型微纳器件与系统技术国防重点学科实验室, 重庆 400044
摘    要:薄膜体声波谐振器(FBAR)的谐振频率会受到外界环境温度的影响而产生漂移,对于FBAR滤波器而言,这种温度-频率漂移特性会导致其中心频率、插入损耗、带内纹波等性能发生变化,降低其在电学应用中的可靠性。应用ANSYS有限元分析软件,对一个典型Mo-AlN-Mo三层结构的FBAR进行了温度-频率漂移特性的仿真,得到其在[-50 ℃, 150 ℃]温度范围内的频率温度系数(TCF)约为-3510-6/℃。在FBAR叠层薄膜结构中添加了一层具有正温度系数的二氧化硅温度补偿层,分析了该补偿层厚度对FBAR的温度-频率漂移特性、谐振频率和机电耦合特性的影响。设计了具有一层二氧化硅温度补偿层的FBAR叠层,由Mo/AlN/SiO2/Mo多层薄膜构成,仿真得到其频率温度系数为0.87210-6/℃;与没有温度补偿层的FBAR相比,温度稳定性得以显著改善。关键词: Abstract: Key words:

关 键 词:射频微电子机械系统   薄膜体声波谐振器   频率漂移   温度系数   稳定性   有限元分析
收稿时间:2014-10-23
修稿时间:2014-12-22
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