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| MoO3与TiO2界面化学分散的研究 | |
| 引用本文： | 韩维屏,尹喜林,李永战.MoO3与TiO2界面化学分散的研究[J].催化学报,1992,13(1):19-24. |
| 作者姓名： | 韩维屏 尹喜林 李永战 |
| 作者单位： | 哈尔滨师范大学表面化学研究所，哈尔滨师范大学表面化学研究所，黑龙江大学 哈尔滨 150080，哈尔滨 150080，1989年毕业的硕士研究生 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | MoO3／TiO2 催化剂 界面化学分散 |
| 收稿时间： | 1992-02-25 |
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