高分子基质对光学-氧压敏感涂料压力灵敏度的影响 |
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引用本文: | 於国伟,王志栋,屈小中,史燚,金毕青,刘治田,金熹高.高分子基质对光学-氧压敏感涂料压力灵敏度的影响[J].高分子学报,2014(3). |
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作者姓名: | 於国伟 王志栋 屈小中 史燚 金毕青 刘治田 金熹高 |
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作者单位: | 武汉工程大学材料科学与工程学院;中国科学院化学研究所高分子物理与化学国家重点实验室; |
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基金项目: | 国家自然科学基金(基金号51003080,51173199);湖北省自然科学基金(基金号2012FFB04705);武汉市青年科技晨光计划项目(项目号201271031385);武汉工程大学研究生创新基金等资助项目 |
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摘 要: | 光学-氧压敏感涂料(pressure sensitive paint,PSP)由氧敏感的发光探针和聚合物载体组成,涂料的氧压灵敏度既与发光探针有关,也与聚合物载体有关.以四(五氟苯基)卟啉铂(PtTFPP)为发光探针,将它分别与四种聚合物即聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚甲基苯基硅氧烷(PMPS)、聚甲基氟丙基硅氧烷(PFS)和三氟氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(PFC)混合成膜.研究不同聚合物对PSP的氧压灵敏度的影响,在室温和氧浓度O2]分别为0%、20%、40%、60%、80%和100%环境下,以λ=365 nm的光激发,测定其对荧光强度I的猝灭作用,从I0/I(I0为纯N2气氛下的荧光强度)对O2]的关系可知:它们的氧猝灭灵敏度随聚合物的氧透过性而增加,即PDMSPMPSPFSPFC,该结果表明上述体系的氧猝灭可从扩散控制机理得到解释.
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关 键 词: | 压力敏感涂料 聚合物载体 发光探针 荧光猝灭 氧压灵敏度 |
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