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直流辉光等离子体辅助热丝CVD法沉积金刚石薄膜
引用本文:赵庆勋,韩佳宁,文钦若,辛红丽,杨景发. 直流辉光等离子体辅助热丝CVD法沉积金刚石薄膜[J]. 光谱实验室, 2002, 19(1): 137-139
作者姓名:赵庆勋  韩佳宁  文钦若  辛红丽  杨景发
作者单位:河北大学物理科学与技术学院,河北省保定市,071002;河北大学物理科学与技术学院,河北省保定市,071002;河北大学物理科学与技术学院,河北省保定市,071002;河北大学物理科学与技术学院,河北省保定市,071002;河北大学物理科学与技术学院,河北省保定市,071002
基金项目:河北省自然科学基金资助项目 (5 990 91)
摘    要:采用直流辉光等离子体助进热丝化学气相沉积(CVD)的方法,低温(550-620℃)沉积得到晶态金刚石薄膜,经X射线衍射谱(XRD),扫描电子显微镜(SEM)分析表明,稍高气压有利于金刚石薄膜的快速,致密生长。

关 键 词:化学气相沉积  低温  金刚石
文章编号:1004-8138(2002)01-0137-03
修稿时间:2001-11-15

Study of Diamond Films Grown on Si(100) by Glow Plasma HFCVD
ZHAO Qing Xun HAN Jia Ning WEN Qin Ruo XIN Hong Li YANG Jing Fa. Study of Diamond Films Grown on Si(100) by Glow Plasma HFCVD[J]. Chinese Journal of Spectroscopy Laboratory, 2002, 19(1): 137-139
Authors:ZHAO Qing Xun HAN Jia Ning WEN Qin Ruo XIN Hong Li YANG Jing Fa
Abstract:
Keywords:CVD  Low Temperature  Diamond.
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