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致密钯膜中裂缺的修补
作者姓名:李安武  熊国兴  R.Hughes
作者单位:1. 中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室,大连,116023;Department of Chemical Engineering, University of Salford, Salford M4 5WT, UK
2. 中国科学院大连化学物理研究所催化基础国家重点实验室,大连,116023
3. Department of Chemical Engineering, University of Salford, Salford M4 5WT, UK
基金项目:国家自然科学基金资助项目! (批准号 :2 9392 0 0 3)
摘    要:尝试使用反渗透与化学镀相结合的方法修补存在大量裂缺的钯膜 ,在维持钯膜高渗透率前提下显著地提高钯膜的氢选择性

关 键 词:  化学镀  反渗透  复合膜    裂缺  氢选择性
本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录!
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