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Ni掺杂ZnS的第一性原理计算
引用本文:曾冬,符春林,蔡苇,郭倩,谭平,张朝阳.Ni掺杂ZnS的第一性原理计算[J].人工晶体学报,2013(1):166-171.
作者姓名:曾冬  符春林  蔡苇  郭倩  谭平  张朝阳
作者单位:重庆科技学院冶金与材料工程学院;电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室;中国工程物理研究院化工材料研究所
基金项目:国家自然科学基金(51102288);重庆市自然基金重点项目(CSTC2011BA4027);电子薄膜与集成器件国家重点实验室开放基金(KFJJ201104);重庆市教委科学技术研究项目(KJ121408)
摘    要:采用基于密度泛函理论(DFT)赝势平面波方法计算了ZnS体系Ni掺杂前后的能带结构、态密度和光吸收系数曲线。结果表明:纯ZnS的能带结构是直接带隙,态密度显示属离子性较强而共价键较弱的混合键半导体材料。掺Ni的ZnS禁带宽度随掺杂量增加逐渐减小,能带简并度增大,且向低能方向移动;在价带顶出现杂质能级,说明是p型掺杂。纯ZnS在3.9 eV以下无吸收,红外透过率较高。掺Ni后吸收边红移,且在低能端(绿光区)出现新的吸收峰。

关 键 词:第一性原理  硫化锌  电子结构  光学性质  掺杂

First-principles Calculation on Ni Doped ZnS
ZENG Dong,FU Chun-lin,CAI Wei,GUO Qian,TAN Ping,ZHANG Chao-yang.First-principles Calculation on Ni Doped ZnS[J].Journal of Synthetic Crystals,2013(1):166-171.
Authors:ZENG Dong  FU Chun-lin  CAI Wei  GUO Qian  TAN Ping  ZHANG Chao-yang
Institution:1.School of Metallurgical and Materials Engineering,Chongqing University of Science and Technology,Chongqing 401331,China; 2.Institute of Chemicals Materials,China Academy of Engineering Physics,Mianyang 621900,China; 3.State Key Laboratory of Electronic Thin Films and Intergrate Devices, University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 610054,China)
Abstract:
Keywords:
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