| DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究 |
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| 引用本文： | 周祖源,陈广超,周有良,吕反修,唐伟忠,李成明,宋建华,佟玉梅. DC Plasma Jet CVD金刚石自支撑膜体结构的控制生长及其表面粗糙度的研究[J]. 人工晶体学报, 2005, 34(1): 21-24 |
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| 作者姓名： | 周祖源 陈广超 周有良 吕反修 唐伟忠 李成明 宋建华 佟玉梅 |
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| 作者单位： | 北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083;北京科技大学材料科学与工程学院,北京,100083 |
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| 基金项目： | 国家“863”计划项目(No. 2002AA305508)，教育部留学基金及北京市科技新星资助项目 |
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| 摘 要： | 在100kW级DC Plasma Jet CVD设备上,采用Ar-H2-CH4混合气体,通过控制工艺参数,在Mo衬底上获得不同占优晶面和应力状态的膜体结构.研究表明:不同取向的晶面在膜体中的分布不同,但各晶面随沉积温度的变化规律是相似的,在900℃左右容易获得较大的(220)晶面占优的膜体结构;薄膜的内应力沿晶体生长方向逐渐减小,且随沉积温度或甲烷浓度的增大而增大;具有高取向度的膜体将获得较为平整的表面.
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| 关 键 词： | 自支撑CVD金刚石薄膜 晶面取向 内应力 表面粗糙度 |
| 文章编号： | 1000-985X(2005)01-0021-04 |
Controlling Deposition and Roughness of Free-standing Diamond Film Deposited by DC Plasma Jet CVD |
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| ZHOU Zu-yuan,CHEN Guang-chao,ZHOU You-liang,LU Fan-xiu,TANG Wei-zhong,LI Cheng-ming,SONG Jian-hua,TONG Yu-mei. Controlling Deposition and Roughness of Free-standing Diamond Film Deposited by DC Plasma Jet CVD[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2005, 34(1): 21-24 |
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| Authors: | ZHOU Zu-yuan CHEN Guang-chao ZHOU You-liang LU Fan-xiu TANG Wei-zhong LI Cheng-ming SONG Jian-hua TONG Yu-mei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | free-standing CVD diamond film orientation residual stress surface roughness |
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