| 退火条件对KDP晶体光学质量的影响研究 |
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| 引用本文： | 孙云,牟晓明,王圣来,顾庆天,许心光,丁建旭,刘光霞,刘文洁,朱胜军. 退火条件对KDP晶体光学质量的影响研究[J]. 人工晶体学报, 2011, 40(4): 832-837 |
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| 作者姓名： | 孙云 牟晓明 王圣来 顾庆天 许心光 丁建旭 刘光霞 刘文洁 朱胜军 |
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| 作者单位： | 山东大学晶体材料国家重点实验室,济南250100;中国兵器工业集团第52研究所烟台分所,烟台264003;山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金(NSFC50721002)资助项目 |
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| 摘 要： | ![]()
本文在不同退火温度和时间下对KDP晶体进行退火实验,并对其光学质量进行了测试和分析.实验表明:合适的退火条件可以增加晶体的透过率、提高光学均匀性、减少散射颗粒,其中160℃为KDP晶体最佳退火温度.在相同的退火温度下,延长退火时间能够更好地提高晶体的光学均匀性和结构完整性.在160℃下退火48h能够使晶体的光损伤阈值提高28;,退火240h能够提高40;以上.
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| 关 键 词： | KDP晶体 退火 光学均匀性 透过率 损伤阈值, |
Effect of Annealing Condition on the Optical Quality of KDP Crystal |
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| SUN Yun,MU Xiao-ming,WANG Sheng-lai,GU Qing-tian,XU Xin-guang,DING Jian-xu,LIU Guang-xia,LIU Wen-jie,ZHU Sheng-jun. Effect of Annealing Condition on the Optical Quality of KDP Crystal[J]. Journal of Synthetic Crystals, 2011, 40(4): 832-837 |
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| Authors: | SUN Yun MU Xiao-ming WANG Sheng-lai GU Qing-tian XU Xin-guang DING Jian-xu LIU Guang-xia LIU Wen-jie ZHU Sheng-jun |
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| Affiliation: | SUN Yun1,MU Xiao-ming2,WANG Sheng-lai1,GU Qing-tian1,XU Xin-guang1,DING Jian-xu1,LIU Guang-xia1,LIU Wen-jie1,ZHU Sheng-jun1(1.State Key Laboratory of Crystal Materials,Shandong University,Jinan 250100,China,2.Department of Yantai,No.52 Institute of China North Industries Group,Yantai 264003,China) |
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| Abstract: | ![]()
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| Keywords: | KDP crystal anneal optical homogeneity transmittance damage threshold |
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