| 离子束作用下KDP晶体表面粗糙度研究 |
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| 引用本文： | 舒谊,周林,戴一帆,沈永祥,解旭辉,李圣怡.离子束作用下KDP晶体表面粗糙度研究[J].人工晶体学报,2011,40(4):838-842. |
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| 作者姓名： | 舒谊 周林 戴一帆 沈永祥 解旭辉 李圣怡 |
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| 作者单位： | 国防科技大学机电工程与自动化学院,长沙,410073 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金重点项目(91023042) |
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| 摘 要： | 为了避免传统加工过程对KDP( Potassium dihydrogen phosphate)晶体表面产生损伤、嵌入杂质等降低晶体抗激光损伤阈值的不利因素,文章探索采用离子束抛光技术实现KDP晶体的加工.本文主要分析了离子束抛光作用下KDP晶体表面粗糙度的演变过程,采用垂直入射和倾斜45°入射两种方式研究KDP晶体表面粗糙度,利用倾斜45°入射的加工方式提高了KDP晶体的表面质量,其表面均方根粗糙度值由初始的3.07 nm减小到了1.95 nm,实验结果验证了离子束抛光加工KDP晶体的可行性.
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| 关 键 词： | KDP晶体 离子束抛光 表面粗糙度 |
Study on Surface Roughness of KDP Crystal in Ion Beam Figuring |
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| SHU Yi,ZHOU Lin,DAI Yi-fan,SHEN Yong-xiang,XIE Xu-hui,LI Sheng-yi.Study on Surface Roughness of KDP Crystal in Ion Beam Figuring[J].Journal of Synthetic Crystals,2011,40(4):838-842. |
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| Authors: | SHU Yi ZHOU Lin DAI Yi-fan SHEN Yong-xiang XIE Xu-hui LI Sheng-yi |
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| Institution: | SHU Yi,ZHOU Lin,DAI Yi-fan,SHEN Yong-xiang,XIE Xu-hui,LI Sheng-yi (College of Mechanical Engineering and Automation,National University of Defense Technology,Changsha 410073,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | KDP crystal ion beam figuring(IBF) surface roughness |
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