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自支撑多铁性薄膜材料研究的机遇与挑战
引用本文:聂越峰,刘明.自支撑多铁性薄膜材料研究的机遇与挑战[J].物理,2023(2):89-98.
作者姓名:聂越峰  刘明
作者单位:1. 南京大学现代工程与应用科学学院固体微结构物理国家重点实验室江苏省功能材料设计原理与应用技术重点实验室;2. 西安交通大学电子与信息学部电子科学与工程学院电子陶瓷与器件教育部重点实验室
摘    要:多铁性材料兼具铁电、铁磁等两种或两种以上铁性有序,并且通过不同铁性之间的多物理场耦合实现新奇磁电效应,在信息存储、换能、传感等方面具有广阔的应用前景。当前,在基础及应用研究方面仍存在许多亟待解决的科学技术问题,譬如寻找及制备室温以上具有强磁电耦合效应的多铁性材料,以及解决与半导体的器件集成问题等,而近年来迅速发展的自支撑薄膜制备技术为此提供了新的机遇。与块体材料及束缚在刚性衬底上的外延薄膜相比,自支撑薄膜具有极为优异的晶格调控自由度,可获得前所未有的极端一维、二维应变(应变梯度),并能够实现人工异质结的构建与器件集成等,为多铁性材料的研究提供了新的材料体系和契机。文章围绕自支撑钙钛矿氧化物(多)铁性材料及人工异质结,总结了最近的重要研究进展,并尝试初步探讨该方向未来可能面临的机遇与挑战。

关 键 词:自支撑薄膜  多铁性  铁电  铁磁  磁电耦合
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