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原子层沉积技术制备单原子催化剂
引用本文:Niancai Cheng,Xueliang (Andy) Sun. 原子层沉积技术制备单原子催化剂[J]. 催化学报, 2017, 38(9). DOI: 10.1016/S1872-2067(17)62903-6
作者姓名:Niancai Cheng  Xueliang (Andy) Sun
作者单位:1. 西安大略大学机械材料工程系, 加拿大;福州大学材料科学与工程学院, 福建福州350108, 中国;2. 西安大略大学机械材料工程系, 加拿大
摘    要:贵金属单原子催化剂因具有独特的催化性能和高的利用率而迅速引人关注.原子层沉积(ALD)逐渐成为大批量合成稳定单原子的有力工具.本文总结了采用ALD合成单原子的最新进展,以及未来的研究方向和趋势.

关 键 词:单原子  原子层沉积  催化  贵金属催化剂  机理

Single atom catalyst by atomic layer deposition technique
Niancai Cheng,Xueliang Sun. Single atom catalyst by atomic layer deposition technique[J]. Chinese Journal of Catalysis, 2017, 38(9). DOI: 10.1016/S1872-2067(17)62903-6
Authors:Niancai Cheng  Xueliang Sun
Affiliation:Niancai Cheng,Xueliang (Andy) Sun
Abstract:Noble single-atom catalysts have rapidly been attracting attention due to their unique catalytic properties and maximized utilization. Atomic layer deposition (ALD) is an emerging powerful tech-nique for large-scale synthesis of stable single atom. In this review, we summarize recent develop-ments of single atom synthesized by ALD as well as explore future research direction and trends.
Keywords:Single-atom  Atomic layer deposition  Catalysis  Noble catalyst  Mechanism
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