| 离子注入对SiO_2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响 |
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| 引用本文： | 徐洮,杨生荣,齐尚奎,吕晋军,薛群基.离子注入对SiO_2表面非晶碳薄膜的化学状态及摩擦学性能的影响[J].摩擦学学报,2001,21(1). |
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| 作者姓名： | 徐洮 杨生荣 齐尚奎 吕晋军 薛群基 |
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| 作者单位： | 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室!甘肃兰州730000，中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室!甘肃兰州730000，中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室!甘肃兰州730000，中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室!甘肃兰 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金! (5 970 2 0 0 1) |
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| 摘 要： | 采用真空蒸镀法在 Si O2 表面制备非晶态碳纳米薄膜 ,考察了碳离子注入对非晶态碳薄膜与基体结合强度及摩擦学性能的影响 ,并采用 X射线光电子能谱表征了碳薄膜 /基体的界面化学状态 .研究结果表明 :非晶态碳薄膜经碳离子注入处理后 ,碳薄膜与基体的结合强度及其耐磨寿命均明显提高 ;当碳离子注入剂量达到 1× 10 1 6 C+ /cm2 时 ,碳薄膜与基体的结合强度增加 ,但碳薄膜耐磨寿命的提高幅度有限 ;当注入剂量达到并超过 5× 10 1 6 C+ /cm2 后 ,碳离子注入所引起的碰撞混合和化学混合作用直接导致碳薄膜与 Si O2 基体界面处的原子扩散以及 Si- C键的形成 ,从而大幅提高碳薄膜与基体的结合强度及其耐磨寿命 .
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| 关 键 词： | 离子束混合 非晶碳薄膜 摩擦学性能 |
Effect of Ion Implantation on the Interface Chemical States and Tribological Behavior of Amorphous Carbon Film on SiO_2 Substrate |
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| XUE Qun ji,XU Tao,QI Shang kui,LU Jinjun,YANG Sheng rong.Effect of Ion Implantation on the Interface Chemical States and Tribological Behavior of Amorphous Carbon Film on SiO_2 Substrate[J].Tribology,2001,21(1). |
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| Authors: | XUE Qun ji XU Tao QI Shang kui LU Jinjun YANG Sheng rong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | ion beam mixing amorphous carbon film tribological behavi |
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