| 高择优取向Mo薄膜的直流磁控溅射制备及其电学性能 |
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| 引用本文： | 王震东,赖珍荃,范定环,徐鹏.高择优取向Mo薄膜的直流磁控溅射制备及其电学性能[J].光子学报,2011(9):1342-1345. |
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| 作者姓名： | 王震东 赖珍荃 范定环 徐鹏 |
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| 作者单位： | 南昌大学物理系; |
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| 基金项目： | 江西省自然科学基金(No.2010GQW0047); 江西省教育厅科技项目(No.GJJ10380)资助 |
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| 摘 要： | 使用直流磁控溅射法在玻璃基底上沉积Mo薄膜,采用X射线衍射仪、原子力显微镜和四探针测试系统研究了溅射工艺对Mo薄膜的结构、形貌和电学性能的影响.结果表明:当基片温度为150℃时,薄膜获得(211)晶面择优取向生长,而在低于250℃的其它温度条件下,样品则表现为(110)晶面择优取向生长.进一步的表面形貌分析显示:薄膜的...
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| 关 键 词： | 直流磁控溅射 Mo薄膜 高择优取向 电学性能 |
Fabrication and Electrical Properties of Highly Preferred Orientation Mo Thin Film by DC Magnetron Sputtering |
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| WANG Zhen-dong,LAI Zhen-quan,HUAN Ding-huan,XU Peng.Fabrication and Electrical Properties of Highly Preferred Orientation Mo Thin Film by DC Magnetron Sputtering[J].Acta Photonica Sinica,2011(9):1342-1345. |
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| Authors: | WANG Zhen-dong LAI Zhen-quan HUAN Ding-huan XU Peng |
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| Institution: | WANG Zhen-dong,LAI Zhen-quan,HUAN Ding-huan,XU Peng(Department of Physics,Nanchang University,Nanchang330031,China) |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | DC magnetron sputtering Mo thin film Highly preferred orientation Electrical property |
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