| 常压化学气相沉积技术生长ZnO:H薄膜的光学性质 |
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| 引用本文： | 李璠,王立,戴江南,蒲勇,方文卿,江风益.常压化学气相沉积技术生长ZnO:H薄膜的光学性质[J].光学学报,2006,26(10):585-1588. |
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| 作者姓名： | 李璠 王立 戴江南 蒲勇 方文卿 江风益 |
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| 作者单位： | 南昌大学教育部发光材料与器件工程研究中心,南昌,330047 |
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| 基金项目： | 国家863计划纳米专项课题(2003AA302160)，电子信息产业发展基金资助课题 |
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| 摘 要： | 采用常压金属有机物化学气相沉积技术(AP-MOCVD),以二乙基锌(DEZn)为Zn源,去离子水(H2O)为氧源,N2作载气,在外延ZnO薄膜的反应气氛中通入少量氢气,在c-Al2O3衬底上生长出了ZnO∶H薄膜。用X射线双晶衍射和光致发光谱对ZnO∶H薄膜的结晶性能和光学性质进行表征。结果表明,ZnO∶H薄膜(002)和(102)面的Ω扫描半峰全宽分别为46.1 mrad和81.4 mrad,表明该薄膜具有良好的结晶性能;室温下,ZnO∶H薄膜具有较强的紫外光发射(380 nm),在低温10 K光致发光谱中观测到位于3.3630 eV处与氢相关的中性施主束缚激子峰(I4)及其位于3.331 eV处的双电子卫星峰(TES)。采用退火的方法,通过观测I4峰的强度变化,研究了氢在ZnO∶H薄膜中的热稳定性。发现随着退火温度的升高,I4峰的强度逐渐减弱,表明在高温下退火,氢会从ZnO薄膜中逸出。
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| 关 键 词： | 薄膜光学 氧化锌 氢 常压金属有机物化学气相沉积 光致发光 |
| 文章编号： | 0253-2239（2006）10-1585-4 |
| 收稿时间： | 2005-11-08 |
| 修稿时间： | 2006-03-24 |
Optical Properties of ZnO:H Films Grown by Atmospheric Pressure Metal Organic Chemical Vapor Deposition (AP-MOCVD) |
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| Li Fan,Wang Li,Dai Jiangnan,Pu Yong,Fang Wenqing,Jiang Fengyi.Optical Properties of ZnO:H Films Grown by Atmospheric Pressure Metal Organic Chemical Vapor Deposition (AP-MOCVD)[J].Acta Optica Sinica,2006,26(10):585-1588. |
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| Authors: | Li Fan Wang Li Dai Jiangnan Pu Yong Fang Wenqing Jiang Fengyi |
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| Institution: | Engineering Research Center For Luminescent Materials and Devices, Ministry of Education, Nanchang University, Nanchang 330047 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | thin film optics ZnO hydrogen atmospheric pressure metalorganic chemical vapor deposition photoluminescence |
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