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溅射制备纳米晶GaN:Er薄膜的室温发光特性
引用本文:潘孝军,张振兴,王涛,李晖,谢二庆. 溅射制备纳米晶GaN:Er薄膜的室温发光特性[J]. 物理学报, 2008, 57(6)
作者姓名:潘孝军  张振兴  王涛  李晖  谢二庆
基金项目:教育部跨世纪优秀人才培养计划
摘    要:利用直流磁控共溅射方法制备了GaN:Er薄膜.X射线衍射结果显示薄膜为纳米多晶结构,根据谢乐公式,计算得到了GaN薄膜晶粒的平均大小为5.8nm;透射电子显微镜结果显示为非晶基质中镶嵌了GaN纳米颗粒,尺寸在6-8nm之间;紫外可见谱结果表明在500-700nm的可见光范围内,薄膜的平均透过率大于80%,在紫外可见谱基础上,利用Tauc公式计算得到了纳米晶GaN薄膜的光学带隙为3.22eV;最后,测量了GaN:Er薄膜的室温光致发光谱,获得了Er3 离子在554nm处的强烈绿光发射.

关 键 词:纳米晶GaN薄膜  Er《'3 》掺杂  光学带隙  光致发光  溅射制备  纳米晶  薄膜  室温  发光特性  nanocrystalline  photoluminescence  visible  temperature  Room  sputtering  绿光发射  光致发光谱  测量  光学带隙  公式计算  平均透过率  范围  可见光  紫外可见

Room temperature visible photoluminescence from nanocrystalline GaN: Er film prepared by sputtering
Pan Xiao-Jun,Zhang Zhen-Xing,Wang Tao,Li Hui,Xie Er-Qing. Room temperature visible photoluminescence from nanocrystalline GaN: Er film prepared by sputtering[J]. Acta Physica Sinica, 2008, 57(6)
Authors:Pan Xiao-Jun  Zhang Zhen-Xing  Wang Tao  Li Hui  Xie Er-Qing
Abstract:
Keywords:
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