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硅片切割废砂浆中去除硅和二氧化硅工艺的研究
引用本文:侯思懿,铁生年,汪长安.硅片切割废砂浆中去除硅和二氧化硅工艺的研究[J].人工晶体学报,2013,42(7):1435-1439.
作者姓名:侯思懿  铁生年  汪长安
作者单位:青海大学非金属材料研究所,西宁,810016;青海大学非金属材料研究所,西宁810016;清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084
基金项目:青海省西宁市科技重点新产品项目(2011-G-18)
摘    要:本文主要研究用碱洗法去除硅片切割废砂浆中硅和二氧化硅等杂质,以获得高纯度的碳化硅.研究了碱液的种类、碱液的浓度、碱液与总硅的配比、反应时间和反应温度各因素对除硅效果的影响,通过正交实验得出了最优的工艺条件.

关 键 词:切割废砂浆    二氧化硅  碱洗法  除杂  

Research on Removing Silicon and Silicon Dioxide from the Cutting Waste Slurry of Silicon Wafer
HOU Si-yi,TIE Sheng-nian,WANG Chang-an.Research on Removing Silicon and Silicon Dioxide from the Cutting Waste Slurry of Silicon Wafer[J].Journal of Synthetic Crystals,2013,42(7):1435-1439.
Authors:HOU Si-yi  TIE Sheng-nian  WANG Chang-an
Abstract:
Keywords:
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